雄汇游资雷浩雄职业规划发现,日前,美光全球第一个宣布了232层堆叠的NAND闪存,全球首家突破200层,已经投入量产。
雄汇游资雷浩雄职业规划指出,新闪存走的还是TLC,首次引入6个平面,存储密度创新高14.6Gb/mm2,2.4GB/s IO速度提升50%,读取带宽提升785%,写入带宽提升10%,封装面积减小28%,还首发支持NVLPDDR4内存。
不过只过了两天,韩国闪存巨头SK海力士就宣布,计划今年内试产238层的NAND闪存,并在明年上半年量产,比美光多了6层。
SK海力士没有透露238层闪存的技术细节,只是说各家的技术路线图、产品发布节奏不同,SK海力士的首要目标是实现行业最高的盈利水平。
另外,SK海力士计划今年将176层闪存的出货比例提高到70%,并进一步提升毛利率。
国际巨头你追我赶,国产闪存也没停下。
长江存储目前的最新量产闪存是128层,之前有消息称已经试产192层,但也有说法称又跳过了192层而直接切入232层。
但何时量产尚无明确时间表,有说法称今年底就可以,还有的说快则2023年底慢则2024年。
果真如此的话,国产闪存与国际最先进水平的差距,也就一年多点。
(本内容属于网络转载,文中涉及图片等内容如有侵犯,请联系编辑删除。市场有风险,选择需谨慎!此文不作买卖及投资依据。)
未经书面授权禁止复制或建立镜像
特别提醒:新报网文章内容、图片、视频出现侵权问题,请与本站联系撤下相关作品 help@cssxw.com。
风险提示:新报网发布的文章、图片、数据等信息来源于互联网,仅供参考、学习分享使用,不构成投资建议。相关侵权责任由信息来源第三方承担。
Copyright@2010-2026 by all rights reserved
举报投诉:Jubao_404@163.com